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真空钨丝炉

1、产品名称：真空钨丝炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钨丝4、温度区间：500℃-2500℃5、极···

真空时效炉

1、产品名称：真空时效炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼/石墨4、温度区间：500℃-1500℃5···

真空退火炉

1、产品名称：真空退火炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼片/石墨4、温度区间：500℃-1500℃···

真空钎焊炉

1、产品名称：真空钎焊炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼镧合金4、温度区间：500℃-1500℃···

真空钼丝炉

1、产品名称：真空钼丝炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼镧合金4、温度区间：500℃-1500℃···

真空热处理炉

1、产品名称：真空热处理炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼丝4、温度区间：500℃-1500℃5、···

真空钼丝热压炉

1、产品名称：真空钼丝热压炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼丝4、温度区间：500℃-1500℃···

真空氢气炉

1、产品名称：真空氢气炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：钼丝4、温度区间：500℃-1500℃5、极···

真空脱脂烧结炉

1、产品名称：真空脱脂烧结炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：石墨4、温度区间：500℃-2000℃···

真空碳管炉

1、产品名称：真空碳管炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：石墨4、温度区间：500℃-2500℃5、极···

真空热压烧结炉

1、产品名称：真空热压烧结炉2、设备结构：立式/卧式/底部升降3、加热元件：石墨/钼/钨4、温度区间：500℃-···

Si3N4 陶瓷

氮化硅陶瓷是一种无机材料，在烧结过程中不会收缩。它是以硅粉为原料制成的。首先，通过通常的成型方法制成···

YSZ陶瓷-钇稳定氧化锆-YSZ···

钇稳定氧化锆（YSZ）陶瓷基板在功能陶瓷方面，其优异的耐高温性能作为感应加热管、耐火材料、发热元件使用。···

YSZ单晶 YSZ陶瓷基板 钇稳定氧化锆-

AlN陶瓷

氮化铝陶瓷基板具有导热系数高、电性能好、无毒等优点。它的热膨胀系数接近硅片，是取代BeO陶瓷的理想材料。···

Al2O3陶瓷

陶瓷基板，也称为陶瓷基板，是一种基于电子陶瓷的片材，用于形成膜电路组件和外部配件组件的支撑底座。陶瓷···

陶瓷基板 氧化铝陶瓷基板 Al2O3

AZO玻璃

AZO玻璃广泛应用于太阳能电池、生物实验、电化学实验、大型大学实验室等新的科技领域。1.规格：100*100mm，···